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雷射編碼器
RLD檢測頭(干涉儀)
光纖雷射編碼器產品RLD10 平面鏡干涉儀
適用於 XY 雙軸平台應用的平面鏡干涉儀。
RLD10 檢測頭容納干涉儀光學鏡組、一個獨特的多通道
條紋探測系統、雷射光閘和內置準直輔助鏡。提供 0° 與 90° 版本的 RLD10 檢測頭。
特性和優點
- 雙軸解決方案－雙軸平面鏡系統為適用於 XY 雙軸平台應用的理想解決方案。
- 高解析度－相較於反射鏡系統，平面鏡系統亦可用於需要較高解析度的應用。
- 敏感環境－平面鏡干涉儀檢測頭亦可作為低功耗版本使用。適合需要功率消耗低於標準 RLD10 所規定 < 2 W 的應用。
規格
| 軸行程 | 0 m 至 1 m |
| 解析度（以 RLU 配置） |
類比正交 = λ/4 (158 nm) |
|
系統非線性誤差* (SDE) *不含介面 |
<±2.5 nm（低於 50 mm/sec，>70% 信號強度） <±7.5 nm（在 1 m/sec，>50% 信號強度時） |
| 最高速度 | 最高 1 m/sec |
非真空應用需要某種形式的折射率補償，以維持變動環境條件下的精度。Renishaw 提供 RCU10 即時方波補償系統，用於對環境變化進行補償。
將 RPI20 平行介面整合至 RLE 系統，便可達成至 38.6 皮米的解析度。此介面接受差分類比 1 Vpp 正弦／餘弦信號，並提供平行格式輸出。如需更多配件相關資訊，請參閱 RCU10 補償系統及雷射編碼器介面。
RLD10反光鏡干涉儀
RLD10 檢測頭容納干涉儀光學鏡組、一個獨特的多通道條紋探測系統、雷射光閘和內置準直輔助鏡。提供 0° 與 90° 版本的 RLD10 檢測頭。
特性和優點
- 多軸解決方案－單軸與雙軸反射鏡系統為多軸應用提供理想的解決方案。
- 長距離與高速－反射鏡干涉儀檢測頭可用於平面鏡干涉儀不適合使用的長距離或高速應用。
- 敏感環境－亦可作為低功率版本使用，適合需要功率消耗低於標準 RLD10 所規定 < 2 W 的應用。
規格
| 軸行程 | 0 m 至 4 m |
| 解析度（以 RLU 配置） |
類比正交 = λ/2 (316 nm) |
|
系統非線性誤差* (SDE) *不含介面 |
<±5 nm（低於 100 mm/sec，>70% 信號強度） <±13 nm（在 2 m/sec，>50% 信號強度時） |
| 最高速度 | 最高 2 m/sec |
若軸長大於 4 m，請參閱我們支援最高軸承 60 m 的 HS20 雷射編碼器系統。
非真空應用需要某種形式的折射率補償，以維持變動環境條件下的精度。Renishaw 提供 RCU10 即時方波補償系統，用於對環境變化進行補償。Renishaw 提供的反射鏡可能不適用於配合真空或接近真空之應用。
將 RPI20 平行介面整合至 RLE 系統（平面鏡配置），便可達成至 38.6 皮米的解析度。如需使用數位輸出加強解析度，Renishaw 內插器的 REE 系列可提供最高至 .395 nm 的解析度（平面鏡配置）。此介面接受差分類比 1 Vpp 正弦／餘弦信號，並提供平行格式輸出。如需更多配件相關資訊，請參閱 RCU10 補償系統及雷射編碼器介面
RLD10 無內部干涉儀
結合 Renishaw 獨特光纖傳輸系統的便利性和效能，並採用應用專屬的光學配置包含一個獨特的多通道條紋探測系統、雷射光閘和內置準直輔助鏡，可讓 RLD 輕鬆導入專業應用。
RLD10-XX 檢測頭僅提供 0° 版本。
特性和優點
- 客製化光學解決方案－不含內部光學鏡組，因此可針對外部光學鏡組配置 RLD，以涵蓋一系列的應用。
- 校正量測－適合搭配 Renishaw 校正光學鏡組系列，以便進行真直度、角度及線性量測。
- 真空相容性－亦相容於 RVI20，可用於兩個特徵之間的相對量測。
規格
| 平面鏡應用 | 反射鏡應用 | |
| 軸行程 | 0 m 至 1 m | 0 m 至 4 m |
| 解析度（以 RLU 配置） | 類比正交 = λ/4 (158 nm) 數位正交 = 10 nm RPI20 解析度 = 38.6 pm |
類比正交 = λ/2 (316 nm) 數位正交 = 20 nm RPI20 解析度 = 77.2 pm |
|
系統非線性誤差* (SDE) *不含介面 |
<±2.5 nm（低於 50 mm/sec，>70% 信號強度） <±7.5 nm（在 1 m/sec，>50% 信號強度時） |
<±5 nm（低於 100 mm/sec，>70% 訊號強度） <±13 nm（在 2 m/sec，>50% 訊號強度時） |
| 最高速度 | 最高 1 m/sec | 最高 2 m/sec |
RLD10 差分干涉儀
差分干涉儀可用在相對於定義參考值的量測。
差分檢測頭採用獨特的光學配置設計，以達到低 SDE 的目的。內置準直輔助鏡可在設定時進行偏擺角與前後傾角調整，改進準直流程（僅適用於平面鏡應用）。
RLD10-X3-DI 檢測頭可透過一個簡單的三定位銷固定架，安裝在製程室的外牆上。無須進入製程室即可對準檢測頭，內置雷射準直輔助鏡可對參考和量測光束的俯仰和偏擺角進行獨立調整，安裝系統設計允許拆卸檢測頭和調整檢測頭位置，對系統準直的影響極小。
特性和優點
- 出眾的度量衡性能 - ppb 級頻率穩定性，超低周期誤差，輸出解析度可達 38.6 pm。
- 差分配置－量測工作台與柱之間的相對位置，因此可消除常見共模誤差，例如與環境波動有關的製程室側壁移動。
- 快速調節準直 - 採用四個內置雷射準直輔助鏡，在真空室外部進行簡單的準直調整，達到消除製程室和鏡子安裝公差。
規格
| 軸行程 | 0 m - 1 m |
| 解析度（以 RLU 配置解析度） | 類比正交 = λ/4 (158 nm) 數位正交 = 10 nm RPI20 解析度 = 38.6 pm |
|
系統非線性誤差* (SDE) *不含介面 |
<±1 nm（低於 50 mm/sec，>70% 信號強度） <±6 nm（在 1 m/sec，>50% 信號強度時） |
| 最高速度 | 達到 1 m/s |
差分干涉儀檢測頭通常配置 Renishaw RLU20。RLU20 雷射光源的高穩定性，再結合差分干涉儀檢測頭的效能，非常適合在真空製程室與其他嚴格管制的環境內進行量測。